高压0.18um 先进工艺技术上海华虹 NEC 电子有限公司工程一部1、简介项目名称：高压0.18μm 先进工艺技术，该项目产品属于30V 高工作电压的关键尺寸为
2009-12-14 11:37
完整的TSMC 0.18um Mixed Signal SPICE MODEL for Hspice
2009-11-18 10:54
文章介绍了采用TSMC 0.18um CMOS工艺设计的2.4GHz WLAN (无线局域网)功率放大器，放大器采用并联拓扑结构设计，改善了功率附加效率（PAE）。在3.3V工作电压下，其压缩点输出功率为21d
2009-06-18 11:17
求大佬分享关于TSMC 0.18um dc数字单元的知识点
2021-06-21 07:29
摘要：提出了一种基于高速锁存器的CMOS高速分频器结构，阐述了其工作速度，工作范围，前后级级联电路设计。采用典型的TSMC0．18Um／1．8V工艺模型，通过Agile
2010-04-30 10:38
本文采用0.18 μm CMOS工艺设计了一种适用于TI-ADC的高速、低功耗开环T&H电路。
2021-04-20 06:58
工艺库TSMC0.18um和TSMC0.18umrf有什么区别呢？求大神解答
2021-06-23 07:33
如何利用0.18μm CMOS工艺去设计16:1复用器？以及怎样去验证这种复用器？
2021-04-09 06:39
给出了一个针对0.8GHZ-6GHZ的超宽带低噪声放大器UWBLNA设计。设计采用0.18um RF CMOS工艺完成。
2017-09-07 19:29
主要介绍使用0.18微米CMOS工艺进行集成电路版图的设计，包含设计方法和仿真结果
2016-06-08 17:52
