翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
龙芯单片机使用 龙芯1B 芯片，内置 linux 系统，然后准备给它加装一个蓝牙通讯芯片，目标功能是和笔记本蓝牙之间能够实现视频信号的通讯传输，笔记本的操作系统也是 linux。我么有做过，求大神们指点思路啊，硬件和
2013-05-22 03:27
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
芯片是如何制造的？CPU是如何设计出来的？
2021-11-01 06:39
关于ESP8266模块的引脚需要注意哪些事项？在龙芯1c单片机上如何使用ESP8266 wifi透传模块呢？
2021-10-26 07:33
想买个2k0300的开发板学习龙芯和openharmony，愣是没有看到提供openharmony源码的，也没与看到开源的代码。gitee上，openharmony的龙芯sig仓库也是关闭的，有没有人知道现在是什么情况？
2025-04-26 13:06
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
迅为龙芯2K1000开发板具有哪些参数特征应用？
2022-03-02 06:12
本文实现了ffmpeg解码器到龙芯3B的移植，并针对龙芯3B实现了对向量扩展指令支持的特点，对ffmpeg解码器进行了手工向量化。
2021-06-02 06:57
光刻法制作叉指电极，叉指电极的图案用什么软件绘制，以及是否有绘制教程，刚接触这个，也没有师兄，希望大佬来指导一下
2022-05-04 19:56
