微细图形加工技术是集成电路向高集成化发展的关键, 其中图形曝光对准是很主要的。由于接触式光刻机的精度高、设备造价低, 所以在集成电路制造中被广泛采用。但是, 随着大规模集
2011-10-28 17:19
精密机械方面涉及到纳米精度的位移控制技术等，这些技术发展中涉及的加工和检测设备也都是各时代最尖端的设备，因此高精度光刻机也被称为“人类历史上最精密”的机器之一。 光刻机
2024-11-21 13:43
尺寸精度：基座的长、宽、高尺寸公差一般要控制在 ±1-±3mm 范围内，具体取决于设备的规格要求。例如，对于高精度光刻机的防震基座，尺寸公差可能要求在 ±1mm 以内。安装孔的位置
2024-12-26 16:45 江苏泊苏系统集成有限公司 企业号
士 0512-50353768设备清单如下：设备厂商设备中文名称设备型号 [/tr] [tr]EV Group高精度光刻机EVGIQA OPTEK层压机DPL-24 MitutoyoQV302/孔径， 对位精度
2017-02-07 09:19
想知道为啥同一光源为什么可以衍生出这么多不同工艺节点，以Intel为例，2000年用的是180nm，而现在已经是10nm了，其实光刻机决定了半导体工艺的制程工艺，光刻机的精度跟光源的波长、物镜的数值孔径
2020-07-07 14:22
，但是由于面板光刻机针对的是薄膜晶体管，芯片光刻机针对的是晶圆，面板光刻机精度要求远低于芯片光刻机，只要达到pm级别即可
2025-01-16 09:29
！光刻机本身的原理，其实和相机非常相似，同学们可以把光刻机就想成是一台巨大的单反相机。相机的原理，是被摄物体被光线照射所反射的光线，透过相机的镜头，将影像投射并聚焦在相机的底片（感光元件）上，如此便可
2020-09-02 17:38
刻蚀机不能代替光刻机。光刻机的精度和难度的要求都比刻蚀机高出很多，在需要光刻机
2022-02-05 15:47
目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外
2022-07-10 14:53
不会有我们现在的手机、电脑了。 光刻机是用于芯片制造的核心设备，按照用途可以分为用于生产芯片的光刻机、用于封装的光刻机和用于LED制造领域的投影光刻机。
2021-07-07 14:31
