，光刻机和单反相机是相似，但两者的复杂和精密度是完全不可同日而语的。否则坊间哪来的“ASML的光刻机比氢弹更难搞”呢？ 光刻机之
2020-09-02 17:38
关于光刻工艺的原理，大家可以想象一下胶片照片的冲洗，掩膜版就相当于胶片，而光刻机就是冲洗台，它把掩膜版上的芯片电路一个个的复制到光刻胶薄膜上，然后通过刻蚀技术把电路“画”在晶圆上。 当然
2020-07-07 14:22
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯国际的公报，目...
2021-07-29 09:36
电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步，对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关，电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长，而电子束聚焦后
2025-05-07 06:03
如果国家以两弹一星的精神投入光刻机的研发制造，结果会怎样？
2020-06-10 19:23
是分步投影光刻机.利用分步投影光刻机,再结合移相掩膜等技术,已经得到了最小线宽0.10微米的图形。 ◆接近式暴光与接触式暴光相似,只是在暴光时硅片和掩膜版之间保留有很小的间隙,这个间隙一般在10~25
2012-01-12 10:56
由Precision resistance翻译而来，简称。普通电阻器区别高精密电阻器的主要依据为阻值误差大小，阻值大小，温度系数的大小。
2019-10-14 09:03
`高精密贴片电阻，误差越小，精度越高，市场上一般的精度有以下几个：0.05%-----字母A表示万分之五精度5%-----字母J表示 百分之五精度0.5%-----字母 D表示千分之五精度0.25
2017-07-12 15:44
我需要将量程±3V的差分电压信号转换为数字信号，要求分辨率小于3uV，由此计算得出需要21位的ADC，我想问一下大家做这么高精密的电路噪声如何计算，以及需要注意些什么。同时希望大家能给推荐一些这方面的参考资料，谢谢大家。
2024-12-18 07:38
本帖最后由 qq583503382 于 2012-9-25 21:12 编辑 高精密电阻Thin Film Precision ChipResistor，属于薄膜贴片电阻的一类，使用薄膜工艺
2012-09-25 15:59
