光刻机完成的。而台积电没有使用EUV光刻机的７纳米工艺要到今年底才能量产，英特尔会更晚些。使用EUV光刻机未来可升级到更先进的5纳米制程。这样看来，中国的ＩＣ制程技术比
2018-06-13 14:40
如果个人去流片的话可不可能啊？自己设计一个芯片去流片，可能吗？
2021-06-18 06:30
翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
大家好： 我们使用的是v7 690t。 当我们使用相同的.mcs文件编程完成FPGA时，某些板在单热状态机中出现不可能的状态，例如，单热状态为0。 编程五板，一板都有错误。 如果我们再次编程错误板，则可能不会出现此错
2020-07-26 09:01
项目中需要pc端使用同样的AES算法，密钥和初始向量加密，但是STM32中使用跟加密协处理器配套的函数，我现在直觉pc端的AES实现跟硬件端同样输入不可能有同样的输出，请问各位大神有没有遇到这种情况怎么解决，或者哪位有pc端配套的AEScbc算法，在此谢过！
2019-05-21 14:33
国产变频器行业正在从以往单纯的提供产品开始转变为为用户提供系统化的解决方案，从高端产品进口转变为国内品牌迅速崛起并逐步打开国际市场。在未来，中国变频器行业定然顺势崛起，攻占国际高端市场。从20世纪
2014-04-18 15:37
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
是否可以防止 NodeMCU 模块被刷新？我正在考虑该板未来的产品机会，其中用户不可能刷新自定义固件，但开发人员/供应商仍然可以发布无线固件升级。我该怎么做？谢谢！
2023-02-27 08:52
下来。结果是实验室之前根本就没做过器件方面的工作，相关方面也没有人有任何经验，只能我自己去摸索去学习，但一学期下来也没有什么头绪（学校里到是有光刻等器件制作平台可以随时预约使用），上学期也被老师说在混
2018-02-27 15:47
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
