用一种缓冲溶液调校pH计，直到指示器正确读出溶液的pH值为止。可以按下面的方法进行调校。
2021-07-12 09:19
维护好化学镀铜溶液应注意以下几方面： 1)根据分析结果补加药品，溶液中的各种成分不是按比例消耗的，凭
2018-07-21 11:21
我们华林科纳研究了三种化学溶液，用于在分布反馈激光器应用的InP外延生长之前清洗光栅。这些化学物质是浓缩的HMSO和n< SO，H2 2的混合溶液，其中n =β和
2022-05-12 13:42
引言 化学蚀刻是通过与强化学溶液接触来控制工件材料的溶解。该过程可以应用于任何材料。铜是利用化学腐蚀工艺制造微电子元件、微工程结构和精密零件中广泛使用的工程材料之一。在
2021-12-29 13:21
引言 湿化学蚀刻是制造硅太阳能电池的关键工艺步骤。为了蚀刻单晶硅，氢氧化钾溶液被广泛使用，因为它们可以形成具有随机金字塔的表面纹理，从而增强单晶硅晶片的光吸收。对于多晶硅晶片，表面纹理化通常通过在含
2022-01-13 14:47
法测定CIGSe的溶解动力学速率。x射线光电子能谱分析表明，处理表面酸性溴溶液的蚀刻过程提供了一个控制的化学变薄过程，这使得几乎平坦的表面和非常低的表面Se0 成为可能。 实验细节 刻蚀条件：本文的
2022-01-24 10:37
氧气传感器中的电解液应当是缓冲溶液或者不至于被一氧化碳中毒或破坏的溶液（比如醋酸钾溶液等等）。电解液最好应当是糊状而不是液体状态硫化氢报警器。使用胶体电解液可以降低干涸趋势从而在低温时显示较好的性能。
2018-06-08 17:47
介绍 于大多数半导体而言，阳极氧化需要价带空穴。因此，人们期望该反应发生在黑暗中的p型半导体和仅在(超)带隙光照射下的n型半导体。 氢氧化钾溶液中硅的化学蚀刻包括两个主要步骤:氢氧化物催化的硅-氢
2021-12-31 15:23
铝离子是在化学反应中，铝原子失去电子，从而使参加反应的铝原子带上3个正电荷。带电荷的铝原子叫做铝离子。在弱酸性溶液（加入pH5.0～6.0的缓冲溶液）中，铝离子与过量的EDTA络合，用氯化锌标准
2018-02-27 14:41
