翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
如题，价格可谈
2012-06-13 21:04
落后三年多（台积电和三星的14/16纳米制程工艺都是在2015年开始量产的），这实际上就是美国对中国大陆ＩＣ制造设备的禁运目标。ＩＣ制造设备种类非常多，价格都非常昂贵，其中最重要的是光刻机。光刻机
2018-06-13 14:40
单片机STC 12C5604AD用于温度控制器，如有意者，请电话联系***，价格电谈！
2012-10-02 10:41
本人基于AD21 已完成布局，走线，初步铺铜。现需要专业的PCB layout工程师帮忙完成后续的走线优化，铺铜，完成时间周一上班前，价格可谈，地点深圳。电话：***，电话同微信号，谢谢
2022-08-20 13:39
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
初转不限，价格可谈。扣扣3073220360
2016-09-12 16:59
求帮设计ARM9 S3C2410的小设计 价格可以谈~~~急
2013-07-06 12:24
本人某985电子学院研一学生，我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做，前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了，让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会，就直接答应了
2018-02-27 15:47
