选择合适的靶材在半导体工艺中十分重要。
2023-12-28 16:03
由于磁控溅射铁磁性靶材的难点是靶材表面的磁场达不到正常磁控溅射时要求的磁场强度，因此解决的思路是增加铁磁性靶
2019-04-29 11:34
半导体靶材是半导体材料制备过程中的重要原料，它们在薄膜沉积、物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）等多种技术中发挥着关键作用。本文将详细介绍半导体靶材的种类以及
2024-09-02 11:43 北京中科同志科技股份有限公司 企业号
真空电镀是一种物理沉积现象。即在真空状态下注入氩气，氩气撞击靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的仿金属表面层。
2024-01-24 11:06
溅射镀膜(Vacuum Sputtering)基本原理是充氩(Ar)气的真空条件下，使氩气进行辉光放电，这时氩(Ar)原子电离成氩离子(Ar+)，氩离子在电场力的作用下加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶
2023-02-24 09:51
离子注入单晶靶材时，因靶体存在特定晶向，其对入射离子的阻滞作用不再如非晶材料般呈现各向同性。沿硅晶体部分晶向观察，能发现晶格间存在特定通道（图 1）。当离子入射方向与靶
2025-09-12 17:16
由原理可知，要产生X射线需要三个必要条件，一是电子源;二是要形成高速电子流;三是要有靶材让高速电子突然减速。
2022-12-02 20:20
磁控溅射技术是在真空中，经电场作用，将氩气电离成Ar+正离子，Ar+经加速后撞击靶材膜料，从而溅射到衬底上，制成薄膜。
2024-03-20 11:27
电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材
2023-06-27 10:08
提高激光强度(激光功率密度)可以有效提高微孔的加工速 率。然而，过高的激光强度在加工过程中也会造成过高的表面温度以及靶材内部 过于陡峭的温度梯度。
2025-07-16 14:31
