型号满足科研及工业, 半导体应用. 霍尔离子源高电流提高镀膜沉积速率, 低能量减少离子轰击损伤表面, 宽束设计提高吞吐量和覆盖沉积区. 整体易操作, 易维护,
2023-05-11 13:26 伯东企业(上海)有限公司 企业号
和 IBD 离子束沉积是其典型的应用. KRi 离子源在 IBSD 离子束溅射沉积应用通常安装两个离子源主要溅射沉积源和二次预清洁 / 离子辅助
2023-05-25 10:18 伯东企业(上海)有限公司 企业号
上海伯东 Pfeiffer 氦质谱检漏仪 ASM 182 TD+ 成功应用于光无源器件检漏光无源器件是不含光能源的光功能器件的总称. 光无源器件在光路中都要消耗能量, 插入损耗是其
2022-08-04 16:59 伯东企业(上海)有限公司 企业号