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  • 193 nm ArF浸没式光刻技术和EUV光刻技术

    翁寿松(无锡市罗特电子有限公司,江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特将投资90亿美元在以下4座

    2019-07-01 07:22

  • 求助论坛的半导体工艺大神们,一个电子系研究生求助

    本人某985电子学院研一学生,我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做,前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了,让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会,就直接答应了

    2018-02-27 15:47

  • 我所了解的中国电子元器件行业

    光刻机完成的。而台积电没有使用EUV光刻机的7纳米工艺要到今年底才能量产,英特会更晚些。使用EUV光刻机未来可升级到更

    2018-06-13 14:40

  • 请问有CYBLE-022001-00 Altium原理图和封装吗?

    你好,有人知道这些文件是否存在吗?谢谢,·纽曼。

    2019-10-22 09:33

  • 中央设备未包含在外围设备的白名单中,连接事件失败

    你好,有一个带有策略过滤器“WelelistCon”的外围设备。当中央设备(地址不包括白名单)连接失败时,会在外围设备中发生任何事件类型吗?谢谢您,·纽曼。

    2019-10-22 10:26

  • 太阳能电池薄膜激光刻配了台特域冷水,用的是什么制冷

    太阳能电池薄膜激光刻配了台特域冷水,用的是什么制冷

    2017-11-25 14:30

  • 光刻胶有什么分类?生产流程是什么?

    光刻胶也称为光致抗蚀剂,是一种光敏材料,它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后,受到光照的

    2019-11-07 09:00

  • 英特半导体制程的节点命名

    英特联合创始人戈登·摩尔在半世纪前提出的摩尔定律,是指每代制程工艺都要让芯片上的晶体管数量翻一番。纵观芯片每代创新历史,业界一直遵循这一定律,并按前一代制程工艺缩小约 0.7倍来对新制程节点命名

    2019-07-17 06:27

  • 纳米板stm32l432kc上的HSE值是多少

    嗨,核纳米板 stm32l432kc 上的 HSE 值是多少?未来:24MHz 晶体但是当我在 cubemx 中初始化默认设置时,它将 HSE 设置为 8 MHz。在船上用户手册中找不到船上 HSE 的价值。

    2022-12-28 06:36

  • MPLAB X v3.30没有生成unified.hex文件该怎么办?

    您好,我刚刚安装了MPLAB X v3.30,并且注意到当存在可加载项目时,它没有生成*.ed.hex文件,在我的例子中是一个引导加载器项目。它一直工作到前一个版本(v3.26)。这是BUG吗?还是*iFieD.HEX文件到别的地方去了?谢谢,路易

    2019-08-07 14:05