电子发烧友

RCA清洗技术是用于清洗硅晶圆等的技术，由于其高可靠性，30多年来一直被用于半导体和平板显示器(FPD)领域的清洗。其基础是以除去颗粒为目的的氨水-过氧化氢溶液组成的SC―1洗涤和以除去金属杂质为

2022-04-21 12:26

化学反应，由于清洗系统具有处理腐蚀性清洗溶液的特殊设备，系统具有长而波动的时间滞后等。在这里，我们首先提出了一个系统的热模型，其中通过DSC(差分扫描量热法)方法，我们分析了清洗溶液的放热化学反应，如SPM(硫酸/过氧化氢混合物)、APM(氨/过氧化氢混合物)和H

2022-04-15 14:55

的构成元素和它们在其中具体的个数。化学家使用更精确的术语“化合物”来描述元素的不同组合。因此，H2O(水)，NaCl(氯化钠或盐),过氧化氢(过氧化氢)和As2O3都是不同的化合物，它们都是由单个分子的集合体组成的。

2023-12-03 14:07

通过电化学作用使颗粒与基底脱离；同时增强对有机物的溶解能力124。过氧化氢（H₂O₂）：一种强氧化剂，可将碳化硅表面的颗粒和有机物氧化为水溶性化合物，便于后续冲洗

2025-08-26 13:34 芯矽科技 企业号

半导体RCA清洗工艺中使用的主要药液包括以下几种，每种均针对特定类型的污染物设计，并通过化学反应实现高效清洁：SC-1（碱性清洗液）成分组成：由氢氧化铵（NH₄OH）、过氧化氢（H₂O₂）和去离子水

2025-09-11 11:19 芯矽科技 企业号

炭黑含量测定仪是一款用于测量橡胶、塑料和色母等材料炭黑和灰分含量的检测仪器，其工作原理是通过试样在高温分解后的重量分析来得到炭黑的含量。炭黑

2025-01-16 11:33 南京大展检测仪器 企业号

在选择真空压力计或者表压传感器时，精度当然是最重要的考虑因素之一。这两种情况下，精度越高则过程控制越好。这在过氧化氢等离子体灭菌过程中尤其重要，该灭菌过程各个阶段的压力都必须被精确控制才可有效工作。确认真空压力计或者表压传感器的精度实际上是度量它们的误差。更加复杂的是，每种仪器计算精度的方法都不同。

2018-06-25 13:30

溶液体系。随后用去离子水（DIW）喷淋冲洗，配合氮气枪吹扫表面以去除溶剂痕迹，完成基础脱脂操作。标准RCA清洗协议实施第一步：碱性过氧化氢混合液处理（SC-1）配

2025-09-03 10:05 芯矽科技 企业号

近年来，作为取代SPM（硫酸/过氧化氢）清洗的有机物去除法，通过添加臭氧的超纯水进行的清洗受到关注，其有效性逐渐被发现。在该清洗法中，可以实现清洗工序的低温化、操作性的提高、废液处理的不必要化

2022-04-13 15:25

对于亚微米或深亚微米 ULSI 的制造，完全抑制在硅晶片表面产生的颗粒和污染非常重要。清洁需求的传统概念是使用化学成分（APM、氨和过氧化氢混合物）发挥主要作用。不幸的是，SC-1 (APM) 对表

2022-03-30 14:29