传统湿法清洗工艺在新一代半导体制作中具有根本的局限性，而湿法清洗后利用超临界二氧化碳的干法干燥法是克服这一局限性的替代方法，考察了超临界干燥法作为中间置换溶剂对IPA的二氧化
2022-03-23 16:36
使用超临界流体去除污染物的过程，即高于其临界温度和压力的类气体物质。超临界流体具有类液体溶剂化特性和类气体扩散和粘度，使其能够快速穿透缝隙和边界层膜，并完全去除其中包含的有机和无机污染物。此外，通过
2022-04-12 15:19
通过对蓄热式热氧化装置运行控制模式的介绍，阐述了蓄热式热氧化装置多个仪表设置的安全问题，根据联锁停炉的控制方式
2023-06-28 14:12
引言 利用现有的超临界二氧化碳进行蚀刻和干燥的工艺由两阶段工艺组成：在高压干燥器外部利用溶剂对晶片进行蚀刻,然后移动到高压干燥器,利用超临界二氧化碳进行清洗和干燥。利用
2022-06-02 16:55
何为超临界流体？超临界流体(supercritical fluids，SCF)具有类似气体的扩散性质，其界面张力为零,容易实现石墨插层；具有类似液体的溶解能力。将高温高压下的超临界流体插层到天然
2023-07-06 10:07
在芯片制程进入纳米时代后，一个看似矛盾的难题浮出水面：如何在不损伤脆弱纳米结构的前提下，彻底清除深孔、沟槽中的残留物？传统水基清洗和等离子清洗由于液体的表面张力会损坏高升宽比结构中，而超临界二氧化碳（sCO₂）清洗技术，凭借其独特的物理特性，正在改写半导体清洗的规
2025-06-03 10:46
作为半导体器件和MEMS微加工技术基础的光刻技术中，显影和清洗等湿法工艺是必不可少的。在本稿中，介绍了能够定量评价超临界CO2处理对微细光刻胶图案―基板间的粘接强度带来的影响的、用于微小结构材料的粘
2022-02-25 15:31
超临界二氧化碳(CO2)由于其低成本、低毒性、不燃性和环境可接受性，已被确定为各种精密清洁应用中氟氯化碳的有前途的溶剂替代品。本文介绍了最近使用CO2作为清洗溶剂的经验，以将该技术应用于商业实践。
2022-04-22 14:05
今天为大家介绍一项国家发明授权专利——小流量超临界二氧化碳井下涡街流量计。该专利由中国石油化工股份有限公司申请，并于2017年7月4日获得授权公告。
2019-02-19 11:44
关键词:超临界清洗，离子注入光刻胶，光刻胶剥离 摘要 本文提出了一种有效的、环保的干剥离方法，使用超临界二氧化碳(SCCO2)系统，在40℃到100℃和压力从90巴到340巴时去除离子植入的光刻剂
2022-01-27 14:07
