在衬底上形成薄膜, 实现辅助镀膜 IBAD. KRi 离子源 e-beam 电子束蒸发系统加装 KRi 离子源作用通过向生长的薄膜中添加能量来增
2023-05-25 10:22 伯东企业(上海)有限公司 企业号
上海伯东代理美国 KRi 考夫曼离子源适用于安装在 MBE 分子束外延, 溅射和蒸发系统, PLD 脉冲激光系统等, 在沉积前用离子轰击表面, 进行预清洁 Pre-clean 的工艺, 对基材表面
2023-05-25 10:10 伯东企业(上海)有限公司 企业号
对离子源进行水冷却即可实现. KDC 160 配备了双灯丝. 在标准配置下, KDC 160 典型离子能量范围为 100 至 1200eV, 离子电流可超过 800
2024-09-13 10:10 伯东企业(上海)有限公司 企业号