翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座
2019-07-01 07:22
的光刻机厂家就剩下ＡＳＭＬ。ASML是荷兰飞利浦公司的半导体部门拆分出来的独立公司（飞利浦半导体部门拆分出的另一家公司是ＮＸＰ恩智浦，最近美国高通公司要收购ＮＸＰ，需要得到中国
2018-06-13 14:40
所用的是esp32-s2idf:4.4调用esp_https_ota API进行固件升级，想获取更新进度，但不知道怎么实现，有人做过或者有思路指点一下吗？
2023-02-14 07:15
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
问题是：该程序的循环在底层VI中，该VI用户不可更改。较顶层的程序均不存在循环。为了排解等待程序运行过程中的无聊，想加个进度条，或者任何会动的，或者提示不要求程序运行完进度条正好到100要如何触发
2014-09-26 16:59
本人某985电子学院研一学生，我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做，前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了，让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会，就直接答应了
2018-02-27 15:47
进不了系统。然后我参考文档使用DBUG口进行调试，但是接上之后全是乱码显示，波特率115200，8，N，1，设置的都没啥问题。还是乱码。想重刷下系统镜像，没有调试串口，不知道如何查看刷机进度，有人能帮忙解决下吗。http://blsw.qiuyi.cn/ 打一针干
2022-01-05 06:39
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。
2020-03-23 09:00
2023 年 RISC-V 中国峰会上，倪光南院士表示，“RISC-V 的未来在中国，而中国半导体芯片产业也需要 RISC-V，开源的 RISC-V 已成为
2023-08-26 14:16
