翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
`希望大神帮忙做个设计图 由于本人刚学，还不太懂，看到网上这个控制器挺不错 而且还是单片机的，所以想学学。单片机LED多模式控制器包括：爆闪 呼吸 警闪 日行灯 刹车灯 一键切换模式 可以调速度已经
2015-05-12 22:19
RT 。我是机械专业的学生，现在毕业设计，老师要我做个设计关于Labview这个软件在“飞思卡尔清华杯”赛车比赛中的应用，资料是搜集到不少，但是都没有设计机械图纸的，大都是关于单片机的，但是我们有
2013-01-01 21:17
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
单片机例子（有程序和设计图）
2015-08-07 16:58
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
输入Ac85V~265V,输出150V跪求：PFC+LLC+同步整流设计图纸。不胜感激！！！！我 的邮箱：zqc568568@sina.com 我的联系方式***
2014-08-10 22:28
求51单片机开发板的仿真设计图吗？能直接在protues中直接打开的！新手来着!
2013-10-28 18:30
目前，我移动鼠标光标，例如把鼠标光标移动到屏幕下方，图纸它会自动上移，以便我看到下面的部分；同样的，如果我把鼠标光标移向屏幕右边，图纸会自动向左移动，以便我看到右侧的部分。这个功能比较智能，但是经常让我感觉它的自作主张跟我预期的不一样。能不能关闭这个
2019-02-27 18:16
的光刻机厂家就剩下ＡＳＭＬ。ASML是荷兰飞利浦公司的半导体部门拆分出来的独立公司（飞利浦半导体部门拆分出的另一家公司是ＮＸＰ恩智浦，最近美国高通公司要收购ＮＸＰ，需要得到中国***的批准，赶上美帝
2018-06-13 14:40
