11月30日最新报道,近日荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)又送来一则好消息,该司已经与比利时半导体研究机构IMEC共同完成了1nm光刻机的设计工作。 据了解
2020-12-09 09:35
想想几年前的全球半导体芯片市场,真的可谓哀嚎一片,一时间摩尔定律失效的言论可谓此起彼伏。但是在今天,我们不仅看到5nm工艺如期而至,台积电宣布2nm获得重大进展,就连光刻机的老大ASML也传来捷报,全球最先进的
2020-12-02 16:55
本月中旬,在日本东京举办了ITF论坛。 论坛上,与ASML(阿斯麦)合作研发光刻机的比利时半导体研究机构IMEC公布了3nm及以下制程的在微缩层面技术细节。 至少就目前而言,ASML对于3m、2
2020-11-30 15:47
)光刻技术,而GlobalFoundries当年也曾经研究过7nm EUV工艺,只不过现在已经放弃了。 而使用极紫外光(EUV)作为光源的光刻机就是EUV
2020-07-07 14:22
荷兰作为光刻的生产大国,很多人纷纷都在问为什么荷兰能生产二中国不行.本文主要分析了中国光刻机的发展分析以及与荷兰之间的差
2017-12-19 14:56
:5000系列的高NA EUV曝光系统的基本设计,将应用于1nm光刻机,预计2022年即可商用。 责任编辑:xj
2020-12-07 17:07
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造,光刻机作为集成电路制造中最关键的设备,对芯片制作工艺有着决定性的影响,被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”,根据之前中芯国际的公报,目...
2021-07-29 09:36
大家都知道,芯片制造的核心设备之一就是光刻机了。现在,全球最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机,那么euv光刻机目
2022-07-10 11:17
芯片是半导体中的积分器,目前芯片的利用率很高,要想在技术领域有所突破,就必须在芯片领域发展。在芯片制造中,最受关注的是光刻机的发展。到目前为止,我国光刻机制造领域还比较
2020-08-02 10:32
的要求则反过来,我们要确保影像要绝对清晰,就要将对焦点落在光阻上,并且确保光阻绝对不可落到景深范围之外。那ASML的光刻机景深有多大呢? 所以我们就是要把光阻移到这个100nm的范围之内,是不是有点
2020-09-02 17:38