将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
各位，有个问题请教一下，我知道esp32有蓝牙模块，cc2541也有，我想使用这两个ic控制ws2812彩灯，通过手机app设置灯的点亮方式，这两个哪个开发难度小，能否给个相应的开发例程？
2024-07-09 20:59
！不知道4412的开发难度大不大！也不了解4核开发难度和单核怎么比！求大神指点！！说错了当我初学者不懂！谢谢指引！！还有一款叫全志A13S的板是什么回事，为什么都是4核价格和讯为的差这么远！
2016-01-10 02:43
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
本人最近因为需要，想要自己开发cc2640蓝牙芯片，之前没接触过，想问下哪位盆友做过，难度大不大？难点是哪里？
2019-04-28 00:01
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
本人某985电子学院研一学生，我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做，前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了，让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会，就直接答应了
2018-02-27 15:47
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。
2020-03-23 09:00
如题，请教tms320f28377s的内置flash除了存程序之外能存一些配置参数吗，如果能的话，能够随时擦写吗？开发难度大不大？如果不行的话，外挂EEPRO或flash(容量小于2M)有什么推荐？先特此谢过各位大神，小弟首次发帖，请多指点。
2017-04-04 21:41
的光刻机厂家就剩下ＡＳＭＬ。ASML是荷兰飞利浦公司的半导体部门拆分出来的独立公司（飞利浦半导体部门拆分出的另一家公司是ＮＸＰ恩智浦，最近美国高通公司要收购ＮＸＰ，需要得到中国***的批准，赶上美帝
2018-06-13 14:40
