台积电0.18工艺电源电压分别是多少？是1.8v跟3.3v吗？
2021-06-25 06:32
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
光刻机完成的。而台积电没有使用EUV光刻机的７纳米工艺要到今年底才能量产，英特尔会更晚些。使用EUV
2018-06-13 14:40
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过
2020-03-23 09:00
带宽积）,指运算放大器（OP）在一定的频率范围内，其增益（dB）和频率之乘积不变，称为增益带宽积。单位为Hz。也用GBW表示。模电课学的是版本一，《OP放大器应用技巧100例》中是版本二；哪个是正确的？还是说这两种说
2017-12-07 23:15
先进封装发展背景晶圆级三维封装技术发展
2020-12-28 07:15
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
各位好，多列表框中写入文本值是用二维字符数组，可是如果只想改变其中一单元格的文本，除了操作二维数据更新，还有其它的办法吗？二维数据每次更新是整个控件的文本值，可以改变某
2018-04-12 15:20
刚刚接手台系的电感，想了解下，哪些产品会用到这种品质比国产好，价格比日系低的电感。或者用台系去替日系的，机会怎么样，工程师接受度如何。因为刚做这块业务，对市场不了解，希
2018-07-25 16:36
