本文介绍了CVD薄膜质量的影响因素及故障排除。 CVD薄膜质量影响因素 以下将以PECVD技术沉积薄膜作为案例，阐述影响
2025-01-20 09:46
薄膜集成电路是使用了薄膜工艺在蓝宝石、石英玻璃、陶瓷、覆铜板基片上制作电路元、器件及其接线，最后进行封装而成的。 集成电路薄膜沉积
2021-12-22 16:41
介绍了铜材料的CVD工艺是怎么实现的以及什么情况下会用到铜CVD工艺。
2024-01-07 14:08
Hello,大家好，今天来分享下半导体FAB中常见的五种CVD工艺。 化学气相沉积（CVD）主要是通过利用气体混合的化学反应在硅片表面沉积一层固体膜的工艺。在
2025-01-03 09:47
薄膜沉积技术主要分为CVD和PVD两个方向。 PVD主要用来沉积金属及金属化合物薄膜,分为蒸镀和溅射两大类，目前的主流工艺为溅射。
2023-12-05 10:25
CVD过程中，不仅在晶圆表面出现沉积，工艺室的零件和反应室的墙壁上也都会有沉积。
2022-12-27 15:34
化学气相沉积 (Chemical Vapor Deposition, CVD）是指不同分压的多种气相状态反应物在一定温度和气压下发生化学反应，生成的固态物质沉积在衬底材料表面，从而获得所需薄膜的工艺技术。
2022-11-04 10:56
薄膜沉积是在半导体的主要衬底材料上镀一层膜。这层膜可以有各种各样的材料，比如绝缘化合物二氧化硅，半导体多晶硅、金属铜等。用来镀膜的这个设备就叫薄膜沉积设备。薄膜制备工艺
2024-03-28 14:22
芯片制作工艺流程 工艺流程1) 表面清洗 晶圆表面附着一层大约2um的Al2O3和甘油混合液保护之,在制作前必须进行化学刻蚀和表面清洗。2) 初次氧化 有热氧化法生成SiO2 缓冲层，用来减小后续
2019-08-16 11:09
