EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯国际的公报，目...
2021-07-29 09:36
一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型：正性光刻和负性光刻，区别如下
2021-01-12 10:17
有人知道 为什么光刻完事 剥离那么容易脱落呢 怎么避免呢
2012-06-26 12:40
半导体光刻蚀工艺
2021-02-05 09:41
在了解Verilog语言的更多细节之前，我们最好先了解一下芯片设计中的不同抽象层。
2021-11-10 08:05
电流的极大值有可能已经达到 20A 。所以，后来才提出逐波限 流。就是不能叫电流在任何时间超过一个设定的数值。以确保ＭＯ Ｓ的安全。 1. 逐波限流功能介绍 逐波限流用于逆变输出时限制逆变输出电流
2021-04-12 19:36
逐波限流和平均限流
2012-08-20 09:33
，小米9pro，oppo Reno3以及vivo X30）分别采用了什么芯片？ 3协同通信的方式有哪些？ 4大数据及认知无线电（名词解释） 4半导体工艺的4个主要步骤： 4简叙半导体光刻技术基本原理 4给出4个全球著名的半导体设备制造商并指出其生产的设备核心技术：
2021-07-26 08:31
中国科学院大学（以下简称国科大）微电子学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院，国科大微电子学院开设的《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》课程是国内少有的研究讨论光刻技术的研究生课程，而开设课程
2021-10-14 09:58
电动车反充电的原理及逐波限流
2012-08-20 09:44
