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  • CMP抛光垫哪些重要指标?

    CMP(Chemical Mechanical Polishing)即“化学机械抛光”,是为了克服化学抛光和机械抛光的缺点

    2023-12-05 09:35

  • 一文详解CMP设备和材料

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    2023-07-10 15:14

  • 半导体制造CMP工艺后的清洗技术

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  • cmp工艺是什么?化学机械研磨工艺操作的基本介绍

    化学机械研磨工艺操作的基本介绍以及其比单纯物理研磨的优势介绍。

    2023-11-29 10:05

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    2024-01-18 11:10

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    2023-06-20 10:51

  • cmp与其他数据处理工具的比较

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    2024-12-17 09:30

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    2024-12-17 09:31

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    2023-11-09 14:15

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    氮化镓芯片是一种新型的半导体材料,由于其优良的电学性能,广泛应用于高频电子器件和光电器件中。在氮化镓芯片的生产工艺中,主要包括以下几个方面:材料准备、芯片制备、工厂测试

    2024-01-10 10:09