引言 正在开发化学下游蚀刻(CDE)工具，作为用于半导体晶片处理的含水酸浴蚀刻的替代物。对CDE的要求包括在接近电中性的环境中获得高蚀刻速率的能力。高蚀刻率是由含NF”
2022-06-29 17:21
好消息，好消息，中微公司于近期成功研制出3nm蚀刻机，且完成了原型机的设计、制造、测试及初步的工艺开发和评估，并已进入量产阶段。
2021-05-27 11:49
在半导体领域，为了保证硅片及芯片等元件的清洁度，达到国际化的无尘标准，需要完整且品质良好的无尘车间洁净室，而从无尘车间的等级到使用范围再到具体的客户要求，生产加工的每个
2025-05-28 14:05 江苏泊苏系统集成有限公司 企业号
许多产品在生产加工的时候对车间的洁净度是有极高要求的，像当前新型冠状病毒疫情期间，口罩的需求量非常大，口罩生产车间的洁净度也是保证口罩品质的指标之一。而激光粉尘传感器可
2020-03-30 16:59
案例精选： 近日，能迪科技接到马来西亚古晋隆基电池四期年产2.8GW M10高效单晶PERC电池项目，要求对工厂洁净车间的空调系统设备进行智能控制以及集中监控。 项目介绍： 洁净车间是工厂能耗大户
2021-12-03 17:38
芯片湿法蚀刻工艺是一种在半导体制造中使用的关键技术，主要用于通过化学溶液去除硅片上不需要的材料。 基本概念 湿法蚀刻是一种将硅片浸入特定的化学溶液中以去除不需要材料的工艺，广泛应用于半导体器件如
2024-12-27 11:12
界定蚀刻的质量，那么必须包括导线线宽的一致性和侧蚀程度，即蚀刻因子，下面就简要介绍蚀刻制程及蚀刻因子。
2021-04-12 13:48
，可满足测试车间洁净等级的要求。目前广泛应用尘埃粒子计数器于制药、医院、环保、检验所等生产企业和科研部门！ 生产环境的洁净程度对制药行业有着至关重要的作用。空气中的污染
2020-05-02 17:17
干法蚀刻与湿法蚀刻之间的争论是微电子制造商在项目开始时必须解决的首要问题之一。必须考虑许多因素来决定应在晶圆上使用哪种类型的蚀刻剂来制作电子芯片，是液体（湿法
2023-04-12 14:54
在半导体行业，晶圆是用光刻技术制造和操作的。蚀刻是这一过程的主要部分，在这一过程中，材料可以被分层到一个非常具体的厚度。当这些层在晶圆表面被蚀刻时，等离子体监测被用来跟踪晶圆层的蚀刻，并确定等离子体
2022-09-21 14:18
