晶片全面曝光的方法，使单一晶片上可以获得更多的芯片(chip)。如此一来，虽然产率得以提高，但同时也制造一些工艺处理问题。特别在对硅晶片蚀刻深凹槽(deeptrench)工艺方面。 由于采用全面曝光
2018-03-16 11:53
湿蚀刻是光刻之后的微细加工过程，该过程中使用化学物质去除晶圆层。晶圆，也称为基板，通常是平面表面，其中添加了薄薄的材料层，以用作电子和微流体设备的基础；最常见的晶圆是由硅或玻璃制成的。湿法刻蚀
2021-01-08 10:15
本帖最后由 eehome 于 2013-1-5 09:58 编辑 各位大侠：有谁知道哪家有供应蚀刻钛的药水，请告知或提供联系方法。谢谢！！！本人的QQ号码是：414615292
2012-08-08 14:51
本帖最后由 青岛晶诚电子设备 于 2017-12-15 13:48 编辑 青岛晶诚电子设备公司主营产品有：半导体设备（SemiconductorEquipment）：硅片清洗机/晶圆清洗
2017-12-15 13:41
湿法蚀刻工艺的原理是使用化学溶液将固体材料转化为液体化合物。选择性非常高，因为所用化学药品可以非常精确地适应各个薄膜。对于大多数解决方案，选择性大于100：1。
2021-01-08 10:12
0.36 到 0.70 µm。各层的标称组成为 In0.485Gao.mP。蚀刻前，样品在沸腾的丙酮、三氯乙烯和甲醇中清洗，并用氮气吹干。最初，使用正性光刻胶 AZ 5214 (Hoechst
2021-07-09 10:23
其中国市场的开发、推广。公司自有产品包括半导体前段、后段、太阳能、平板显示FPD、LED、MEMS应用中的各种湿制程设备，例如硅片湿法清洗、蚀刻，硅芯硅棒湿法化学处理，液晶基板清洗，LED基片显影脱膜等
2015-04-02 17:23
触摸镜头，镜头表面会粘上油渍及指纹，对涂层有害，从而影响工业相机使用。 清洗用具的选择 通常来说，压缩空气就足以清除掉工业相机芯片内部的所有杂质，但不宜使用喷雾剂类型的压缩空气，因为这种喷雾剂经常含有
2015-10-22 14:14
苏州晶淼专业生产半导体、光伏、LED等行业清洗腐蚀设备，可根据要求定制湿法腐蚀设备。晶淼半导体为国内专业微电子、半导体行业腐蚀清洗设备供应商，欢迎来电咨询。电话：***，13771786452王经理
2016-09-05 10:40
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2016-09-05 14:26
