。这个蚀刻步骤可以产生光滑的晶体表面，并且可以通过改变第一步骤的方向、化学试剂和温度来选择特定的蚀刻平面。GaN晶体的湿化学蚀刻是一个非常重要的工艺。清洗效果的好坏极大
2021-07-07 10:24
晶片全面曝光的方法，使单一晶片上可以获得更多的芯片(chip)。如此一来，虽然产率得以提高，但同时也制造一些工艺处理问题。特别在对硅晶片蚀刻深凹槽(deeptrench)工艺方面。 由于采用全面曝光
2018-03-16 11:53
PCB，电路板，基板上面如何出现电路呢？这就要蚀刻来实现。所谓蚀刻，先在板子外层需保留的铜箔部分，也就是电路的图形部分，在上面预镀一层铅锡抗蚀层，然后用化学方式将其余的铜箔腐蚀掉。铜有两层，一层
2017-02-21 17:44
Removal)方式，让您后续实验无往不利。封装体开盖(Decap)LED、砷化镓芯片、车用芯片、光耦合芯片特殊开盖(Decap)Backside、MEMS、封装材料制作、各式封装体拆解化学法
2018-08-29 15:21
0.36 到 0.70 µm。各层的标称组成为 In0.485Gao.mP。蚀刻前，样品在沸腾的丙酮、三氯乙烯和甲醇中清洗，并用氮气吹干。最初，使用正性光刻胶 AZ 5214 (Hoechst
2021-07-09 10:23
我司是做湿法蚀刻药水的，所以在湿法这块有很多年的研究。所以有遇到湿法蚀刻问题欢迎提问，很愿意为大家解答。谢谢！QQ：278116740
2017-05-08 09:58
湿蚀刻是光刻之后的微细加工过程，该过程中使用化学物质去除晶圆层。晶圆，也称为基板，通常是平面表面，其中添加了薄薄的材料层，以用作电子和微流体设备的基础；最常见的晶圆是由硅或玻璃制成的。湿法刻蚀
2021-01-08 10:15
为了在基板上形成功能性的MEMS结构，必须蚀刻先前沉积的薄膜和/或基板本身。通常，蚀刻过程分为两类：浸入化学溶液后材料溶解的湿法蚀刻干蚀刻，其中使用反应性离子或气相
2021-01-09 10:17
各位同仁好！我最近在芯片清洗上遇到一个问题，自己没办法解决，所以想请教下。一个刚从氮气包装袋拿出来的晶圆片经过去离子水洗过后，在强光照射下或者显微镜下观察，片子表面出现一些颗粒残留，无论怎么洗都
2021-10-22 15:31
北京华林嘉业科技有限公司(简称CGB)，公司致力于为以下行业提供蚀刻、清洗、显影、去膜、制绒、减薄等高品质设备：半导体LED：硅片清洗机；硅片腐蚀机；硅片清洗腐蚀设备；
2011-04-13 13:23
