小芯片与单片的决定现在变得更加困难。一旦考虑到封装成本，单片芯片的制造成本很可能会更便宜。此外，小芯片设计存在一些电力成本。在这种情况下，构建一个大型单片芯片绝对比使用
2022-07-25 16:32
在集成电路的制造过程中，有一个重要的环节——光刻，正因为有了它，我们才能在微小的芯片上实现功能。
2018-12-29 15:32
刻的基本原理是利用光致抗蚀剂（或称光刻胶）感光后因光化学反应而形成耐蚀性的特点，将掩模板上的图形刻制到被加工表面上。
2018-01-09 13:37
在集成电路的制造过程中，有一个重要的环节——光刻，正因为有了它，我们才能在微小的芯片上实现功能。
2019-01-03 15:31
在集成电路的制造过程中，有一个重要的环节光刻，正因为有了它，我们才能在微小的芯片上实现功能。 根据维基百科的定义，光刻是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在
2020-11-11 10:14
光刻掩模是光的一种掩蔽模片，其作用有类似于照相的通过它，可以使它“底下“的光剂部分成光，难溶于有机药品，一部分不感光，易溶于有机药品，以而制得选择扩散所需的窗口和互速所需的图案。 掩膜版有两种：一种
2024-09-04 14:55
为避免对被处理表面的任何损伤，应当使用低温下温和的化学方法。超声波的应用也可以增强剥离效能。因为有腐蚀问题、一些已知的剥离液不能作用与铝等金属表面；在此情况下、臭氧或氧等离子体(灰化)是首先采用的。这些等离子体同样成功地作为非铝表面的光刻交剥离剂，但是，器件表面的损坏仍是要解决的问题。
2019-09-05 11:29
在集成电路的制造过程中，有一个重要的环节——光刻，正因为有了它，我们才能在微小的芯片上实现功能。现代刻划技术可以追溯到190年以前，1822年法国人Nicephore niepce在各种材料光照
2019-02-17 11:36
