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  • 光刻胶有什么分类?生产流程是什么?

    光刻胶也称为光致抗蚀剂,是一种光敏材料,它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正

    2019-11-07 09:00

  • 机有什么典型应用 ?

    机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶,最大涂胶尺寸达8寸,得到厚度均匀的光刻胶层,同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶;通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。

    2020-03-23 09:00

  • PCB工艺设计原理

    光刻胶的光敏材料; 2、光电绘图仪使用光源有选择性地对部分光刻胶进行曝光; 3、曝光后光刻胶的化学特性发生变化,光刻胶是正片的经过曝光后将软化,如果

    2024-06-16 11:17

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    2021-07-29 09:18

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    国际半导体芯片巨头垄断加剧半导体芯片产业呈现三大趋势

    2021-02-04 07:26

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    2021-02-24 07:52

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    2020-12-29 07:46

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    2021-06-18 06:53

  • 半导体材料有什么种类?

    半导体材料从发现到发展,从使用到创新,拥有这一段长久的历史。宰二十世纪初,就曾出现过点接触矿石检波器。1930年,氧化亚铜整流器制造成功并得到广泛应用,是半导体材料开始受到重视。1947年锗点接触三极管制成,成为半导体

    2020-04-08 09:00

  • 半导体制冷片的工作原理是什么?

    半导体制冷片是利用半导体材料的Peltier效应而制作的电子元件,当直流电通过两种不同半导体材料串联成的电偶时,在电偶的两端即可分别吸收热量和放出热量,可以实现制冷的目的。它是一种产生负热阻的制冷技术,其特点是无运动

    2021-02-24 09:24