上海伯东美国 KRi 大尺寸考夫曼离子源 KDC 160 适用于 2-4英寸的硅片刻蚀和清洁应用, KRi KDC 160 是直流栅网离子源, 高输出离子束电流超过 1000mA. 高功率光束无需
2024-09-13 10:10 伯东企业（上海）有限公司 企业号
成特定的图形才能用于芯片, 因 LiNbO3 惰性特性, 使用 ICP 或 RIE 工艺无法完成刻蚀, 上海伯东 IBE 离子束刻蚀机为铌酸锂 LiNbO3 薄膜
2024-09-13 10:59 伯东企业（上海）有限公司 企业号
刻蚀是半导体制造中最常用的工艺之一, 上海伯东日本 Atonarp Aston 质谱仪适用于等离子体刻蚀过程及终点监测 (干法刻蚀终点检测), 通过持续监控腔室工艺化学气体, 确保半导体晶圆生产
2024-10-18 13:33 伯东企业（上海）有限公司 企业号
工作原理单节锂电池供电，通过BOOST电路升压到15V，单片机PWM输出100KHz频率控制Boost升压，AD采样输出电压作为反馈，单片机根据反馈电压调整PWM占空比，保证输出电压稳定。DCDC
2024-07-16 10:02 深圳市澜起智能科技有限公司 企业号
广告机、自动售卖机和工控一体机主板采用了联发科MTK6761/MT8766芯片平台，采用了先进的12nm工艺制程，64位四核Cortex-A53架构，主频高达2.0GHz，搭配
2023-09-14 18:40 深圳市智物通讯科技有限公司 企业号
