众所周知,我国芯片制造技术与国际先进水平有着不小的差距。芯片制造的关键设备--光刻机,与国际领先水平差距更大:世界最先进水平已经到了5nm水平,而我国才达到90nm水平。
2020-04-20 16:42
芯片刻蚀是半导体制造中的关键步骤,用于将设计图案从掩膜转移到硅片或其他材料上,形成电路结构。其原理是通过化学或物理方法去除特定材料(如硅、金属或介质层),以下是芯片刻蚀的基本原理和分类: 1. 刻蚀
2025-05-06 10:35
的加工工艺流程,加工过程中需要运用刻蚀机在晶圆上把复杂的3D图形一层一层“堆叠”起来,实现单片机IC芯片的更小化。芯片,
2018-08-23 17:34
刻蚀机不能代替光刻机。光刻机的精度和难度的要求都比刻蚀机高出很多,在需要
2022-02-05 15:47
芯片湿法刻蚀方法主要包括各向同性刻蚀和各向异性刻蚀。为了让大家更好了解这两种方法,我们下面准备了详细的介绍,大家可以一起来看看。 各向同性
2024-12-26 13:09
刻蚀机的刻蚀过程和传统的雕刻类似,先用光刻技术将图形形状和尺寸制成掩膜,再将掩膜与待加工物料模组装好,将样品置于刻蚀室内,通过化学腐蚀或物理磨蚀等方式将待加工物料表面的
2024-03-11 15:38
近来有网络媒体称,“中微半导体自主研制的5纳米等离子体刻蚀机,性能优良,将用于全球首条5纳米芯片制程生产线”,并评论说“中国芯片生产技术终于突破欧美封锁,第一次占领世界
2019-02-16 11:00
在芯片制造过程中的各工艺站点,有很多不同的工艺名称用于除去晶圆上多余材料,如“清洗”、“刻蚀”、“研磨”等。如果说“清洗”工艺是把晶圆上多余的脏污、particle、上一站点残留物去除掉,“刻蚀
2024-12-16 15:03 Piezoman压电侠 企业号