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  • 光刻胶黏度如何测量?光刻胶需要稀释吗?

    光刻胶在未曝光之前是一黏性流体,不同种类的光刻胶具有不同的黏度。黏度是光刻胶的一项重要指标。那么光刻胶的黏度为什么重要

    2023-11-13 18:14

  • 光刻胶的类型及特性

    光刻胶类型及特性光刻胶(Photoresist),又称光致抗蚀剂,是芯片制造光刻工艺的核心材料。其性能直接影响

    2025-04-29 13:59

  • 不仅需要***,更需要光刻胶

    为了生产高纯度、高质量的光刻胶需要高纯度的配方原料,例如光刻树脂,溶剂PGMEA…此外,生产过程中的反应釜镀膜和金属析出污染监测也是至关重要的控制环节。例如,2019年,某家半导体

    2023-11-27 17:15

  • 光刻胶的原理和正负光刻胶的主要组分是什么

    光刻胶的组成:树脂(resin/polymer),光刻胶中不同材料的粘合剂,给与光刻胶的机械与化学性质(如粘附性、胶膜厚度、热稳定性等);感光剂,感光剂对光能发生光化学反应;溶剂(Solvent

    2022-10-21 16:40

  • 光刻胶芯片制造的关键材料,圣泉集团实现了

    这是一老式的旋转涂胶机,将芯片上涂上光刻胶然后将芯片放到上边,可以通过机器的旋转的力度将光刻胶均匀分布到

    2018-05-17 14:39

  • 半导体制造光刻胶去除方法

    本发明涉及一去除光刻胶的方法,更详细地说,是一半导体制造光刻胶去除方法,该方法适合于在半导体装置的

    2022-04-13 13:56

  • 光刻胶分类与市场结构

    光刻胶主要下游应用包括:显示屏制造、印刷电路板生产、半导体制造等,其中显示屏是光刻胶最大的下游应用,占比30%。光刻胶

    2024-01-03 18:12

  • 光刻胶光刻机的关系

    光刻胶光刻机研发的重要材料,换句话说光刻机就是利用特殊光线将集成电路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕迹,就需要网硅片上涂一层

    2022-02-05 16:11

  • 关于光刻胶的关键参数介绍

    与正光刻胶相比,电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。未曝光的光刻胶在显影过程中溶解,而曝光的

    2024-03-20 11:36

  • 光刻胶板块的大涨吸引了产业注意 ,国产光刻胶再遇发展良机?

    5月27日,半导体光刻胶概念股开盘即走强,截至收盘,A股光刻胶板块涨幅达6.48%。其中晶瑞股份、广信材料直线拉升大涨20%封涨停,容大感光大涨13.28%,扬帆新材大涨11.37%,南大光电

    2021-05-28 10:34