本文简单介绍了芯片制造过程中的两种刻蚀方法 刻蚀（Etch）是芯片制造
2024-12-06 11:13
在芯片制造过程中的各工艺站点，有很多不同的工艺名称用于除去晶圆上多余材料，如“清洗”、“刻蚀”、“研磨”等。如果说“清洗”工艺是把晶圆上多余的脏污、particle、上一站点残留物去除掉，“
2024-12-16 15:03 Piezoman压电侠 企业号
在半导体制程工艺中，有很多不同名称的用于移除多余材料的工艺，如“清洗”、“刻蚀”等。如果说“清洗”工艺是把整张晶圆上多余的不纯物去除掉，“刻蚀”工艺则是在光刻胶的帮助下有选择性地移除不需要的材料，从而创建所需的微细图
2023-09-24 17:42
芯片刻蚀是半导体制造中的关键步骤，用于将设计图案从掩膜转移到硅片或其他材料上，形成电路结构。其原理是通过化学或物理方法去除特定材料（如硅、金属或介质层），以下是芯片刻蚀的基本原理和分类： 1.
2025-05-06 10:35
中兴事件，引起一堆人质疑中国造不出芯片。实际上制造芯片需要相关仪器，光刻机，刻蚀
2019-08-30 15:07
刻蚀机不能代替光刻机。光刻机的精度和难度的要求都比刻蚀机高出很多，在
2022-02-05 15:47
口离子束刻蚀机 IBE 可以很好的解决传感器 MEMS 的刻蚀难题, 射频角度可以任意调整, 蚀刻可以根据需要做垂直, 斜面等等加工形状,
2024-09-12 13:31 伯东企业（上海）有限公司 企业号
Bosch刻蚀工艺作为微纳加工领域的关键技术，对于HBM和TSV的制造起到了至关重要的作用。
2024-10-31 09:43
在半导体制造流程中，每一块纳米级芯片的诞生，背后都是一场在原子层面展开的极致精密较量。而在这场微观世界的“精密之战”中，刻蚀机堪称光刻
2025-07-17 10:00
