• 发文章

  • 发资料

  • 发帖

  • 提问

  • 发视频

创作活动
0
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
返回

电子发烧友 电子发烧友

  • 全文搜索
    • 全文搜索
    • 标题搜索
  • 全部时间
    • 全部时间
    • 1小时内
    • 1天内
    • 1周内
    • 1个月内
  • 默认排序
    • 默认排序
    • 按时间排序
大家还在搜
  • 智能汽车芯片设计及制造过程

    至现在的2000-3000颗左右,它们应用于汽车上的感知、交互、通信、控制、存储等等不同的场景,可以说,智能汽车的方方面面都离不开车规级芯片的支持,那这块承载着十亿甚至数百亿的晶体管的芯片,是怎么被设计制造出来的呢?

    2023-08-02 17:05

  • 芯片制造过程

    有人说芯片是人类最高智慧的代表,很多人都无法理解,接下来跟随小编一起了解芯片的制作全过程,看完你就懂了。

    2021-12-08 17:42

  • 半导体制造CMP工艺后的清洗技术

    半导体的制造以硅晶圆为起点,经过形成前工序的晶体管的FEOL,插头形成的MOL,以及连接晶体管作为电子电路发挥作用的布线工序的BEOL,形成器件芯片,在后工序中,将芯片进行个片化后进行封装,完成

    2022-04-20 16:11

  • 如何使用cmp进行数据库管理的技巧

    你在使用 cmp 命令时进行有效的数据库管理。 1. 理解 cmp 命令 cmp 命令用于比较两个文件是否在内容上完全相同。它逐字节比较文件,并在找到第一个不同的地方时停止。这对于检查数据库文件的一致性非常有用,尤其

    2024-12-17 09:31

  • 一文详解CMP设备和材料

    在前道加工领域:CMP 主要负责对晶圆表面实现平坦化。晶圆制造前道加工环节主要包括7个相互独立的工艺流程:光刻、刻蚀、薄膜生长、扩散、离子注入、化学机械抛光、金属化 CMP 则主要用于衔接不同薄膜工艺,其中根据工艺段

    2023-07-10 15:14

  • 半导体制造工序中CMP后的晶圆清洗工序

    CMP装置被应用于纳米级晶圆表面平坦化的抛光工艺。抛光颗粒以各种状态粘附到抛光后的晶片表面。必须确实去除可能成为产品缺陷原因的晶圆表面附着物,CMP后的清洗技术极为重要。在本文中,关于半导体制造工序

    2022-04-18 16:34

  • 晶圆制造过程及应用设备

    一块芯片的诞生需经历重重考验,从设计到制造再到封装测试,每一关都需用到大量的设备和材料。而在半导体加工的过程中,集成电路制造更是半导体产品加工工序最多,工艺最为密集的环

    2019-10-14 10:07

  • CMP的概念、重要性及工作原理

    化学机械抛光(CMP)是晶圆制造的关键步骤,其作用在于减少晶圆表面的不平整,而抛光液、抛光垫是CMP技术的关键耗材,价值量较高,分别占CMP耗材49%和33%的价值量,

    2023-08-02 10:59

  • 半导体制造过程解析

    在这篇文章中,我们将学习基本的半导体制造过程。为了将晶圆转化为半导体芯片,它需要经历一系列复杂的制造过程,包括氧化、光刻

    2024-10-16 14:52

  • cmp与其他数据处理工具的比较

    CMP在不同的语境下有不同的含义,一种是指芯片多处理器(Chip Multiprocessors),另一种是指“比较”(compare)的缩写。 CMP与编程语言中的比较功能

    2024-12-17 09:30