。 光刻则是在晶圆上“印刷”电路图案的关键环节，类似于在晶圆表面绘制半导体制造所需的详细平面图。光刻的精细度直接影响到成品芯片
2024-12-30 18:15
。正性光刻胶在半导体制造中使用得最多，因其可以达到更高的分辨率，从而让它成为光刻阶段更好的选择。现在世界上有不少公司生产用于半导体制造的
2022-04-08 15:12
，以及在下面紧贴着抗蚀膜的一层硅。刻蚀（英语：etching）是半导体器件制造中利用化学途径选择性地移除沉积层特定部分的工艺。刻蚀对于器件的电学性能十分重要。如果
2017-10-09 19:41
制造过程中，步骤会因为不同的材料和工艺而有所差异，不过大体上皆采用这样的类似工艺过程，于是就需要用到光刻机和刻蚀机。首先
2018-08-23 17:34
文章编号：1003-353X(2005)06-0032-051 引言作为微电子技术核心的集成电路制造技术是电子工业的基础，其发展更新的速度是其他产业无法企及的。在集成电路制作过程中，光刻是其
2018-08-23 11:56
。 光刻工艺、刻蚀工艺 在芯片制造过程中，光刻工艺和
2025-04-02 15:59
今日分享晶圆制造过程中的工艺及运用到的半导体设备。晶圆制造过程中有几大重要的步骤：氧化、沉积、光刻、
2018-10-15 15:11
半导体光刻蚀工艺
2021-02-05 09:41
，尼康在ASML面前被打的毫无还手之力，高端光刻机市场基本被ASML占据。光刻机工作原理在加工芯片的过程中，光刻机通过一
2018-09-03 09:31
值得注意的关键控制点。 制定项目时间表 ERP实施是一个长期的项目，在此过程中会涉及到各种资源，也会涉及到任务的分解，而且大部分事情都有一个先后次序的要求，因此时间的分配和控制必须制定好。而实际操作中，常常
2017-09-01 13:37
