本文简单介绍了芯片制造过程中的两种刻蚀方法 刻蚀（Etch）是芯片制造
2024-12-06 11:13
在芯片制造过程中的各工艺站点，有很多不同的工艺名称用于除去晶圆上多余材料，如“清洗”、“刻蚀”、“研磨”等。如果说“清洗”工艺是把晶圆上多余的脏污、particle、上一站点残留物去除掉，“
2024-12-16 15:03 Piezoman压电侠 企业号
在半导体制程工艺中，有很多不同名称的用于移除多余材料的工艺，如“清洗”、“刻蚀”等。如果说“清洗”工艺是把整张晶圆上多余的不纯物去除掉，“刻蚀”工艺则是在光刻胶的帮助下有选择性地移除不需要的材料，从而创建所需的微细图案。半导体“
2023-09-24 17:42
。常见的干法刻蚀设备有反应离子刻蚀机（RIE）、电感耦合等离子体刻蚀机（
2024-01-20 10:24
芯片制造设备的精度要求达到了令人惊叹的程度。以光刻机为例，它的光刻分辨率可达纳米级别，在如此高的精度下，哪怕是极其微小的震动，都可能让
2025-05-21 16:51 江苏泊苏系统集成有限公司 企业号
芯片刻蚀是半导体制造中的关键步骤，用于将设计图案从掩膜转移到硅片或其他材料上，形成电路结构。其原理是通过化学或物理方法去除特定材料（如硅、金属或介质层），以下是芯片刻蚀的基本原理和分类： 1.
2025-05-06 10:35
中兴事件，引起一堆人质疑中国造不出芯片。实际上制造芯片需要相关仪器，光刻机，刻蚀
2019-08-30 15:07
刻蚀工艺的核心机理与重要性 刻蚀工艺是半导体图案化过程中的关键环节，与光刻机和薄膜沉积设备并称为半导体制造的三大核心
2025-04-27 10:42
刻蚀机不能代替光刻机。光刻机的精度和难度的要求都比刻蚀机高出很多，在需要
2022-02-05 15:47
