氧化镍电极充放电过程中的物理化学变化
2009-11-05 16:50
原位表征技术可以从空间动态角度分析软包锂电池内部的力学和化学变化。由于商业化软包锂电池结构封闭，快速充电过程中的失效机理比较复杂，这给软包电池的表征带来很大难度。同步X光成像是一种常用的原位无损检测软包锂电池内部力学、电化学
2022-07-05 15:11
是如何一步一步变成了芯片制造的卡脖子技术？本文试图一探究竟。 光刻技术是利用光学和
2020-12-04 15:45
光刻机是芯片制造的重要设备，内部结构精密复杂，它决定着芯片的制程工艺，是芯片生产中不可少的关键设备，而且
2021-12-30 09:46
光刻是芯片制造过程中至关重要的一步，它定义了芯片上的各种微细图案，并且要求极高的精度。以下是光刻过程的详细介绍，包括原理
2025-01-28 16:36
芯片前道制造可以划分为七个环节，即沉积、涂胶、光刻、去胶、烘烤、刻蚀、离子注入。
2023-06-08 10:57
光刻技术是集成电路最重要的加工工艺。在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻
2018-04-22 17:54
光刻是在晶圆上创建图案的过程，是芯片制造过程的起始阶段，包括两个阶段——光掩膜制造和图案投影。
2023-04-25 09:22
在整个芯片制造过程中，几乎每一道工序的实施都离不开光刻技术。光刻技术也是
2023-04-26 08:57
一、光刻工艺概述 光刻工艺是半导体制造的核心技术，通过光刻胶在特殊波长光线或者电子束下发生
2025-06-09 15:51
