刻蚀是半导体制造中最常用的工艺之一, 上海伯东日本 Atonarp Aston 质谱仪适用于等离子体刻蚀过程及终点监测 (干法刻蚀终点检测), 通过持续监控腔室工艺化学气体, 确保半导体晶圆生产
2024-10-18 13:33 伯东企业(上海)有限公司 企业号
有机物清洗, 金属氧化物的去除等, 提高沉积薄膜附着力, 纯度, 应力, 工艺效率等!KRi 离子源预清洁可以实现去除物理吸附污染: 去除表面污染, 如水, 吸附气
2023-05-25 10:10 伯东企业(上海)有限公司 企业号
实验名称:辉光放电特征及风速测量原理 研究方向:辉光放电 测试设备:信号发生器、ATA-8202射频功率放大器,热成像仪、万用表、等离子体传感器 实验过程:在等离子体形成条件和流场响应
2024-07-19 10:40 Aigtek安泰电子 企业号
半导体设备光刻机防震基座在 LCD 面板制造曝光机中的成功应用案例-江苏泊苏系统集成有限公司一、案例背景在 LCD(Liquid Crystal Display)面板制造领域,曝光
2024-12-24 14:43 江苏泊苏系统集成有限公司 企业号