和成品率，开发比以往更加显著地降低残留污染量的清洗、干燥技术变得越来越重要。即使在各种干燥化发展的今天，半导体器件表面的清洗
2022-04-19 11:21
本文中，为了在半导体制造中的平坦化工艺，特别是在形成布线层的工程中实现CMP后的高清洁面，关于湿法清洗所要求的功能和课题，关于适用新一代布线材料时所担心的以降低腐蚀及表面粗糙度为焦点的清洗
2022-04-20 16:11
在半导体器件的制造过程中，由于需要去除被称为硅晶片的硅衬底上纳米级的异物（颗粒），1/3的制造过程被称为清洗过程。在半导体器件中，通常进行RCA清洁，其中半导体器件以一批25个环（盒）为单位，依次
2022-04-20 16:10
集成芯片的制造运用了多种技术，这些技术相互关联、相互支持，共同构成了集成芯片制造
2024-03-21 15:48
在芯片制程进入纳米时代后，一个看似矛盾的难题浮出水面：如何在不损伤脆弱纳米结构的前提下，彻底清除深孔、沟槽中的残留物？传统水基清洗和等离子清洗由于液体的表面张力会损坏高升宽比结构中，而超临界二氧化碳（sCO₂）
2025-06-03 10:46
PCBA水清洗工艺是以水作为清洗介质，可在水中添加少量（一般为2%～10%）表面活性剂、缓蚀剂等化学物质，通过洗涤，经多次纯水或去离子水的源洗和干燥完成PCBA清洗的过
2019-12-26 11:35
气相清洗设备是溶剂清洗设备，它是利用溶剂蒸气不断地蒸发和冷凝，使被清洗工件不断“出汗”并带出污染物的原理进行清洗的。气相清洗
2020-03-25 11:23
在本文中，将介绍超声波镜头清洗 (ULC) 技术以及该项技术如何帮助实现自清洗摄像头应用。
2023-07-08 15:27
本文介绍了晶圆清洗的污染源来源、清洗技术和优化。
2025-03-18 16:43
