在半导体器件的制造过程中，由于需要去除被称为硅晶片的硅衬底上纳米级的异物（颗粒），1/3的制造过程被称为清洗过程。在半导体器件中，通常进行RCA清洁，其中半导体器件以一批25个环（盒）为单位，依次
2022-04-20 16:10
半导体的制造以硅晶圆为起点，经过形成前工序的晶体管的FEOL，插头形成的MOL，以及连接晶体管作为电子电路发挥作用的布线工序的BEOL，形成器件芯片，在后工序中，将芯片进行个片化后进行封装，完成
2022-04-20 16:11
有源区工艺是指通过刻蚀去掉非有源区的区域的硅衬底，而保留器件的有源区。
2024-10-31 16:55
交换芯片缓冲区大小并不一定是固定的。缓冲区的设计和实现会根据芯片的具体型号、规格以及应用场景的不同而有所差异。一些交换芯片
2024-03-18 14:42
LED 芯片的制造工艺流程：外延片→清洗→镀透明电极层→透明电极图形光刻→腐蚀→去胶→平台图形光刻→干法刻蚀→去胶→退火→SiO2 沉积→窗口图形光刻→SiO2 腐蚀→去胶→N极图形光刻→预
2016-08-05 17:45
芯片制造中的各道工序极为精密，那么我们是如何保持工艺中无污染的呢？
2023-12-26 17:01
随着制造业对产品品质和生产效率要求日益提升，在线式超声波清洗作为一种先进且高效的清洗技术，正广泛应用于电子元器件、医疗器械及精密零部件的清洗环节。根据市场调研，采用在线
2025-06-17 16:42 科伟达超声波清洗设备 企业号
玻璃清洗机可以显著提高清洗效率，并且在许多方面都具有明显的好处。以下是一些使用玻璃清洗机的好处：1.提高效率：玻璃清洗机使用自动化和精确的
2025-05-28 17:40 科伟达超声波清洗设备 企业号
超声波清洗机通过使用高频声波(通常在20-400kHz)在清洗液中产生微小的气泡，这种过程被称为空化。这些气泡在声压波的影响下迅速扩大和破裂，产生强烈的冲击力，将附着在物体表面的污垢剥离。以下
2025-05-21 17:01 科伟达超声波清洗设备 企业号
在工业生产和制造过程中，很多设备和机械都需要经常进行清洗，以保持其正常运行和延长使用寿命。其中，超声波除油清洗技术因其高效、便捷和安全的特点，已经被广泛应用于各个领域。但是有很多人不清楚超声波除油
2025-05-14 17:30 科伟达超声波清洗设备 企业号
