CMP（Chemical Mechanical Polishing）即“化学机械抛光”，是为了克服化学抛光和机械抛光的缺点
2023-12-05 09:35
需要指出的是，CMP 技术通过化学与机械作用使得待抛光材料表面达到所需平滑程度。其中，抛光液中化学物质与材料表面发生化学反应，生成易于抛光的软化层。抛光
2023-12-27 10:58
集成电路芯片有一个关键制程——化学机械抛光，最多需要反复128次。国际先进的芯片制造厂已使用7纳米制程工艺，1纳米相当于6万分之一根头发丝，难度可想而知。过去，国内
2019-01-30 15:12
据了解，鼎龙股份自2002年起涉足CMP抛光垫领域，经过12年的研发与积累，终于在2021年实现了大规模销售并实现盈利。目前，该公司已经成功确立了CMP抛光垫国产供应龙
2024-05-30 09:44
12月27日消息，根据韩媒报道，SK海力士近日研发出了可重复使用的 CMP抛光垫技术，不仅可以降低成本，而且可以增强 ESG（环境、社会、治理）管理。
2023-12-27 13:48
在现代工业中，表面加工是至关重要的一环。为了达到所需的表面粗糙度、光洁度和平整度等要求，往往需要进行抛光处理。
2023-06-08 11:13
CMP技术指的是在化学和机械的协同作用下，使得待抛光原料表面达到指定平面度的过程。化学药水与原料接触后，生成易于抛光的软化层，随后利用抛光垫以及研磨颗粒进行物理机械
2023-12-28 15:13
CMP 所采用的设备及耗材包括抛光机、抛光液（又称研磨液)、抛光垫、抛光后清洗设备、拋光终点(End Point)检测及
2022-11-08 09:48
抛光工艺是指激光切割好钢片后，对钢片表面进行毛刺处理的一个工艺。电解抛光处理后的效果要优于打磨抛光，因此电解抛光工艺常用于有密脚元件的钢网上。建议IC引脚中心间距在0.
2018-09-22 14:02
