本文介绍了先进集成电路制造多重曝光中的套刻精度要求。
2025-05-21 10:55
台湾要求台积电等制造商帮助缓解全球芯片短缺问题,芯片,台积电,台湾,半导体,nvidia
2021-02-05 17:59
芯片厂为什么要使用超纯水？ 普通的水中含有氯，硫等杂质，会腐蚀芯片中的金属。如果水中有Na，K等金属杂质，会造成MIC（可动离子污染）等问题。因此
2023-06-29 10:48
对双金属温度计的安装，应注意有利于测温准确，安全可靠及维修方便，而且不影响设备运行和生产操作，要满足以上要求，在选择对热电阻的安装部位和插入深度时要注意以下几点：
2020-04-03 16:36
在半导体集成电路（IC）制造过程中，铝（Aluminum）是广泛使用的一种金属材料，特别是在金属互连层（metal interconnect）和芯片外部连接的工
2024-12-20 14:21
顶层金属 AI工艺是指形成顶层金属 AI 互连线。因为 Cu很容易在空气中氧化，形成疏松的氧化铜，而且不会形成保护层防止铜进一步氧化，另外，Cu 是软金属，不能作绑定的金属
2024-11-25 15:50
芯片在现在是非常吃香，并且芯片研发待遇也很高，挺多人都想去学与芯片相关的技术，那么芯片制造学什么专业呢？
2021-12-21 10:24
本文通过前驱体上氨基的热裂解过程中的自由基转移过程，开发了硫氮共掺杂共价化合物(S-NC)作为主型阴极，从而可控地引入大量带正电荷的硫自由基。本文工作为锂硫电池无金属阴极的设计和制造提供了一个新方法。
2022-10-11 15:57
书籍：《炬丰科技-半导体工艺》 文章：金属氧化物半导体的制造 编号：JFKJ-21-207 作者：炬丰科技 概述 CMOS制造工艺概述 CMOS制造工艺流程 设
2023-04-20 11:16
