光刻是芯片制造过程中至关重要的一步，它定义了芯片上的各种微细图案，并且要求极高的精度。以下是光刻过程的详细介绍，包括原理
2025-01-28 16:36
芯片前道制造可以划分为七个环节，即沉积、涂胶、光刻、去胶、烘烤、刻蚀、离子注入。
2023-06-08 10:57
是如何一步一步变成了芯片制造的卡脖子技术？本文试图一探究竟。 光刻技术是利用光学和化学反应的原理，以及利用化学和物理的刻蚀方法，把电路图形制作到半导体基片、或者下一层介质材料之上，经过有序的
2020-12-04 15:45
光刻机是芯片制造的重要设备，内部结构精密复杂，它决定着芯片的制程工艺，是芯片生产中不可少的关键设备，而且
2021-12-30 09:46
]。光刻胶涂覆在半导体、导体和绝缘体上，经曝光显影后留下的部分对底层起保护作用，然后采用超净高纯试剂进行蚀刻，从而完成了将掩膜版图形转移到底层上的图形转移过程。一个IC的制造一般需要经过10多次图形转移
2018-08-23 11:56
