因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准伯东公司日本原装设计制造离子蚀刻机 IBE. 提供微米级刻蚀, 均匀性: ≤±5%, 满足
2022-11-07 16:27 伯东企业（上海）有限公司 企业号
因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准伯东公司日本原装进口小型离子蚀刻机, 适用于科研院所, 实验室研究, 干式制程的微细加工
2022-11-07 16:41 伯东企业（上海）有限公司 企业号
, 蚀刻速率 >10(nm/min), 均匀性 ≤±5%, 全自动化系统减少人工操作, 保证产品高稳定性和高质量. 有效减少因人工操作带来的损失！全自动离子刻蚀机 M
2022-11-07 17:22 伯东企业（上海）有限公司 企业号
GK-1000光刻掩膜版测温仪，光刻机曝光光学系统测温仪光刻机是一种用于微纳米加工的设备，主要用于制造集成电路、光电子器件、MEMS（微机电系统）等微细结构。
2023-07-07 11:46 安徽鼎诺仪器科技有限公司 企业号
因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准NS 离子蚀刻机 20 IBE-J上海伯东日本原装进口适合大规模量产使用的离子刻蚀机Φ4 inch X
2022-11-07 17:17 伯东企业（上海）有限公司 企业号
因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准上海伯东日本原装进口适合小规模量产使用和实验室研究的离子蚀刻机, 一般通氩气 Ar, 无污染
2022-11-07 16:44 伯东企业（上海）有限公司 企业号
晶片规格： 2-8〞单、双cassette 主要材料: 金属骨架+PP/PVC壳体，槽体材质PP/PVDF/PTFE/石英 工艺槽功能： 加热冷却+旋转 基础工艺流程: KOH→HQDR KOH→QDR H2SO4→QDR 设备类型： 手动/半自动（定制） Footprint : 2000 (W)
2022-12-15 13:03 苏州清芯卓半导体设备有限公司 企业号
因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准离子蚀刻机 4 IBE伯东公司日本原装进口小型离子蚀刻机, 适用于科研院所
2022-11-07 16:30 伯东企业（上海）有限公司 企业号
