] 。因此,在发展新的193nm光致抗蚀剂的主体树脂时，也需要发展新的、具有高光敏性的光敏产酸物。 在国内，虽然193nm的曝光设备已经成熟，但由于与之相配套的光刻胶
2018-08-23 11:56
工艺流程: 芯片设计，光掩模版制作，晶圆上电路制造，(薄膜氧化，平坦化，光刻胶涂布，光刻，刻蚀，离子注入扩散，裸片检测)
2025-03-27 16:38
摘要：芯片制造用到的技术很多，光刻是芯片制造的灵魂
2020-12-04 15:45
光刻机是芯片制造的重要设备，内部结构精密复杂，它决定着芯片的制程工艺，是芯片生产中不可少的关键设备，而且
2021-12-30 09:46
随着半导体技术的发展，光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2～3个数量级（从毫米级到亚微米级），已从常规光学技术发展到应用电子束、 X射线、微离子束、激光等新
2012-01-12 10:51
