一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型：正性光刻和负性光刻，区别如下
2021-01-12 10:17
湿法蚀刻工艺的原理是使用化学溶液将固体材料转化为液体化合物。选择性非常高，因为所用化学药品可以非常精确地适应各个薄膜。对于大多数解决方案，选择性大于100：1。
2021-01-08 10:12
半导体光刻蚀工艺
2021-02-05 09:41
本帖最后由 gk320830 于 2015-3-9 04:33 编辑 电子工程师硬件工程师基础知识
2012-08-20 14:20
工程师必备
2012-08-20 15:46
电子工程师指南全面介绍工程师所具备的电路知识电子工程师指南全面介绍工程师所具备的电路知识
2011-04-07 10:28
就我所了解的，在现在以及可预见的未来，这个行业对软件工程师的需求绝对是碾压硬件工程师的。也就是说，招软件工程师的职位比硬件工程师的职位要多的多，而且软件
2021-12-24 08:05
原理图的设计、PCB设计，因而电子研发工程师所面临的PCB设计挑战也不断增加：信号完整性（SI），电源完整性（PI）、EMC/EMI以及热分析、可制造性等等问题。那咋解决了？嘿嘿，别担心，电子发烧友网即将举办
2015-03-31 17:16
中国科学院大学（以下简称国科大）微电子学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院，国科大微电子学院开设的《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》课程是国内少有的研究讨论光刻技术的研究生课程，而开设课程
2021-10-14 09:58
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作
2021-07-29 09:36
