。 光刻则是在晶圆上“印刷”电路图案的关键环节，类似于在晶圆表面绘制半导体制造所需的详细平面图。光刻的精细度直接影响到成品芯片的集成度，因此需要借助先进的
2024-12-30 18:15
光刻是芯片制造过程中至关重要的一步，它定义了芯片上的各种微细图案，并且要求极高的精度。以下是光刻过程的详细介绍，包括原理
2025-01-28 16:36
芯片前道制造可以划分为七个环节，即沉积、涂胶、光刻、去胶、烘烤、刻蚀、离子注入。
2023-06-08 10:57
受到影响。另外，集成电路工艺中在进行阱区和源漏区离子注入时，也需要有较好的保护电路图形的能力，否则光刻胶会因在注入环境中挥发从而影响到注入腔的真空度。此时注入的离子将不会起到其在电路
2018-08-23 11:56
光刻机是芯片制造的重要设备，内部结构精密复杂，它决定着芯片的制程工艺，是芯片生产中不可少的关键设备，而且
2021-12-30 09:46
三种常见的光刻技术方法根据暴光方法的不同,可以划分为接触式光刻,接近式光刻和投影式
2012-01-12 10:56
是如何一步一步变成了芯片制造的卡脖子技术？本文试图一探究竟。 光刻技术是利用光学和化学反应的原理，以及利用化学和物理的刻蚀方法，把电路图形制作到半导体基片、或者下一层介
2020-12-04 15:45
