为了在基板上形成功能性的MEMS结构，必须蚀刻先前沉积的薄膜和/或基板本身。通常，蚀刻过程分为两类：浸入化学溶液后材料溶解的湿法蚀刻干蚀刻，其中使用反应性离子或气相蚀刻
2021-01-09 10:17
`哪位了解LCVD激光气相沉积设备，想买一台用来做补线用。如图，沉积出宽10um左右的金属线。求大神指点！`
2014-01-17 10:36
请问一下芯片制造究竟有多难？
2021-06-18 06:53
如何安装气相色谱仪？如何去使用气相色谱仪？
2021-05-08 07:50
STM32F101VB微处理器在气相色谱仪中的应用是什么
2021-05-21 06:08
闸极,区域图样,隋后玻璃基板经光阻剥离洗净,再以薄膜区电浆辅助化学相沉积机台形成用作主动区域,经过一系列的协作.
2020-04-03 09:01
对半导体晶圆制造至关重要的是细致、准确地沉积多层化学材料，以形成数千、数百万甚至在有些情况下是数 10 亿个晶体管，构成各种各样复杂的集成电路 (IC)。在制造这些 I
2020-05-20 07:40
芯片制造全工艺流程详情
2020-12-28 06:20
芯片是怎样制造出来的？有哪些过程呢？
2021-10-25 08:52
常用的主要有接触燃烧式气体传感器、电化学气敏传感器和半导体气敏传感器等。接触燃烧式气体传感器的检测元件一般为铂金属丝（也可表面涂铂、钯等稀有金属催化层），使用时对铂丝通以电流，保持300℃～400
2019-10-25 09:00
