化学气相沉积 (Chemical Vapor Deposition, CVD）是指不同分压的多种气
2022-11-04 10:56
：物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积（CVD），其中CVD工艺设备占比
2024-03-28 14:22
虽然在商用化学气相沉积设备中可以在一次运行中实现多片4H－SiC衬底的同
2020-12-26 03:52
低热量化学气相工艺制备氮化硅美国Aviza工艺公司开发出一种低温化学气相
2009-06-12 21:08
原子层沉积（Atomic layer deposition，ALD）是一种可以沉积单分子层薄膜的特殊的化学气相
2023-06-15 16:19
机理出发,结合反应 室设计和材料科学的发展,介绍了化学气相沉积(CVD)法碳化硅外延设备反应室、加热系统和旋转系统等的技术进 展,最后分析了 CVD 法碳化硅外延设备未
2023-02-16 10:50
摘要 本文的目的是建立科技锁的技术水平，必须打开科技锁才能将直接大气压等离子体增强化学气相沉积(AP-PECVD)视为工业应用的可行选择。总结了理解和优化等离子体
2022-02-21 16:50
的反复进行，做出堆叠起来的导电或绝缘层。 用来镀膜的这个设备就叫薄膜沉积设备，制造工艺按照其成膜方法可分为两大类：物理气相沉积(PVD)和
2025-04-16 14:25
审核编辑：彭静
2022-11-03 10:00
