化学气相沉积 (Chemical Vapor Deposition, CVD）是指不同分压的多种气
2022-11-04 10:56
：物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积（CVD），其中CVD工艺设备占比
2024-03-28 14:22
虽然在商用化学气相沉积设备中可以在一次运行中实现多片4H－SiC衬底的同
2020-12-26 03:52
低热量化学气相工艺制备氮化硅美国Aviza工艺公司开发出一种低温化学气相
2009-06-12 21:08
保留半导体电路图。这一步骤需要借助液体、气体或等离子体等物质，通过湿法刻蚀或干法刻蚀等方法，精确去除选定的多余部分。 薄膜沉积将含有特定分子或原子单元的薄膜材料，通过一系列技术手段，如化学气
2024-12-30 18:15
的作用：1.通过减薄/研磨的方式对晶片衬底进行减薄，改善芯片散热效果。2.减薄到一定厚度有利于后期封装工艺。气相外延炉气相
2018-09-03 09:31
