光刻胶类型及特性光刻胶（Photoresist），又称光致抗蚀剂，是芯片制造中光
2025-04-29 13:59
光刻机是芯片制造中光刻环节的核心设备， 技术含量、价值含量极高。 光刻机
2018-04-10 10:19
胶在集成电路制造中的应用，对其反应机理及应用性能指标进行阐述，重点从工艺的角度去提出新的研究方向。关键词：光刻胶；应用性能；反应机理；集成电路；光刻
2018-08-23 11:56
光刻是芯片制造过程中至关重要的一步，它定义了芯片上的各种微细图案，并且要求极高的精度。以下是
2025-01-28 16:36
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“
2021-07-29 09:36
在芯片制造中，光刻技术在硅片上刻出纳米级的电路图案。然而，当制程进入7纳米以下，传统光刻的分辨率已逼近物理极限。这时，
2025-05-28 16:45
芯片前道制造可以划分为七个环节，即沉积、涂胶、光刻、去胶、烘烤、刻蚀、离子注入。
2023-06-08 10:57
，增幅11.11%。 截图自企查查 光刻胶是芯片制造中光刻环节的重要材料，目前主要被日美把控，国内在
2021-08-12 07:49
光刻机是芯片制造的重要设备，内部结构精密复杂，它决定着芯片的制程工艺，是芯片生产中不可少的关键设备，而且
2021-12-30 09:46
半导体设备安装防震装置主要有以下几方面原因：一、高精度加工要求1,光刻工艺(1)光刻是半导体制造的关键步骤，其精度要求极高。例如，在芯片
2025-02-05 16:48 江苏泊苏系统集成有限公司 企业号
