半导体设备光刻机防震基座在 LCD 面板制造曝光机中的成功应用案例-江苏泊苏系统集成有限公司一、案例背景在 LCD(Liquid Crystal Display)面板
2024-12-24 14:43 江苏泊苏系统集成有限公司 企业号
上海伯东客户日本某生产半导体用光刻机公司, 光刻机真空度需要达到 1x10-11 pa 的超高真空, 因为设备整体较大, 需要对构成光刻机的真空相关部件进行检漏且要求清洁无油, 满足无尘室使用要求
2022-08-04 17:18 伯东企业(上海)有限公司 企业号
盐雾腐蚀试验箱是一种用于模拟和加速材料或产品在特定环境下的腐蚀过程的设备,广泛应用于金属和非金属材料及其制品的耐腐蚀性能测试。检定流程是对盐雾腐蚀试验箱进行校准和验证的过程,以确保其性能和精度
2024-06-17 16:24 上海久滨仪器有限公司 企业号
刻蚀是半导体制造中最常用的工艺之一, 上海伯东日本 Atonarp Aston 质谱仪适用于等离子体刻蚀过程及终点监测 (干法刻蚀终点检测), 通过持续监控腔室工艺化学气体, 确保半导体晶圆生产
2024-10-18 13:33 伯东企业(上海)有限公司 企业号