。 光刻则是在晶圆上“印刷”电路图案的关键环节，类似于在晶圆表面绘制半导体制造所需的详细平面图。光刻的精细度直接影响到成品芯片的集成度，因此需要借助先进的
2024-12-30 18:15
的图案。在"刻蚀"过程中，晶圆被烘烤和显影，一些光刻胶被洗掉，从而显示出一个开放通道的3D图案。刻蚀工艺必须在不影响
2022-04-08 15:12
，以及在下面紧贴着抗蚀膜的一层硅。刻蚀（英语：etching）是半导体器件制造中利用化学途径选择性地移除沉积层特定部分的工艺。刻蚀对于器件的电学性能十分重要。如果刻蚀
2017-10-09 19:41
半导体光刻蚀工艺
2021-02-05 09:41
热转印电路板制作过程中需要注意什么问题？
2021-04-21 06:18
DSP系统的干扰主要来源如何在DSP系统的PCB制作过程中减小各种干扰？如何解决电磁干扰问题
2021-04-26 07:03
的加工工艺流程，加工过程中需要运用刻蚀机在晶圆上把复杂的3D图形一层一层“堆叠”起来，实现单片机IC芯片的更小化。芯片，本质上是一片载有集成电路（IC：Integrat
2018-08-23 17:34
一、样机制作样机制作是PCB抄板后期过程中的一个关键环节，为保证产品PCB抄板的可行性和产品准备投入试产提供可靠实物依据。样机
2017-06-16 15:36
文章编号：1003-353X(2005)06-0032-051 引言作为微电子技术核心的集成电路制造技术是电子工业的基础，其发展更新的速度是其他产业无法企及的。在集成电路制作过程中，光刻是其关键工艺[1
2018-08-23 11:56
值得注意的关键控制点。 制定项目时间表 ERP实施是一个长期的项目，在此过程中会涉及到各种资源，也会涉及到任务的分解，而且大部分事情都有一个先后次序的要求，因此时间的分配和控制必须制定好。而实际操作中，常常
2017-09-01 13:37
